Laboratorium technologiczne foto i nanolitografii

CMiN-65.JPG [7.22 MB]

 

O laboratorium

Laboratorium technologiczne foto i nanolitografii - umieszczone jest w pokojach czystych i zostało podzielone na dwa stanowiska. Pierwsze stanowisko nanolitografii wykorzystuje elektronowy mikroskop skaningowy wyposażony w dodatkową katodę jonową (mikroskop w konfiguracji dual beam) wraz z dedykowanym systemem sterującym firmy Raith. Tak skonfigurowany system umożliwia wytwarzanie Nano-wzorów dwoma metodami:

  • metodą litografii elektronowej wraz z procesem chemicznego trawienia (trawienie mokre),
  • metodą litografii jonowej - tzw. trawienie suche

Drugim systemem dedykowanym do litografii jest stanowisko klasycznej fotolitografii wykorzystujące światło ultrafioletowe. W skład systemu wchodzą: wirówka do nanoszenia fotorezystów (emulsji światłoczułych) - spin coater, płyta grzewcza do utrwalania fotorezystu (hot plate), urządzenie do wyrównywania i naświetlania próbek (tzw. mask aligner) oraz układ wywoływania po procesie naświetlania.

 

Pracownicy:

dr Dariusz Płoch
dr inż. Ewa Bobko
mgr inż. Piotr Krzemiński
inż. Anna Juś